IBM та Lam Research об’єднуються для розробки EUV-резиста під мікросхеми розміром менше 1 нм.
Компанії розроблятимуть техпроцес для масштабування виробництва логічних мікросхем розміром менше 1 нм з використанням високоапертурної EUV-літографії та технології сухого резиста Aether від Lam.
Ключова увага приділятиметься перевірці повноцінних техпроцесів для нанолистових та наностекових архітектур транзисторів та забезпечення живлення зі зворотного боку з використанням платформ травлення Kiyo й Akara від Lam, систем охолодження Striker та ALTUS Halo, а також сухого резиста Aether.
Більше ITC: Telegram • Facebook • X • YouTube